SHOR professional Relax Mask for problematic Skin Успокаивающая маска для проблемной кожи 100 мл 2020100

Назначение:

Активно смягчающая и успокаивающая маска на основе оксида цинка, серы, зеленой глины, камфоры и растительных экстрактов специально создана для устранения недостатков жирной и проблемной кожи. Обладает сильным противовоспалительным действием, способствует очищению пор.

Действие:

Сужает поры, уменьшает воспаление, регулирует салоотделение.

Применение:

Нанести толстым слоем на все лицо на 15-20 минут, смыть водой.

Состав:

Дистилированная вода / Water

Белая глина / Kaolin

Пропилен гликоль / Propylene Glycol

Оксид цинка / Zinc Oxide

Сера биорастворимая / Sulphur

Зелёная глина / Montmorillonite, Illite

Этиловый спирт / Ethanol

Цетиловый спирт / Cetyl Alcohol

Камфора / Camphor

Глицерин / Glycerine

Цетеариловый спирт / Cetearyl Alcohol

Феноксиэтанол / Phenoxyethanol

Стеарат ПЭГ / PEG Stearate

Гидроксиэтилцеллюлоза / Hydroxyethylcellulose

Этилгексилглицерин / Ethylhexylglycerin

Натриевая соль фитиновой кислоты (фитат натрия) / Sodium Phytate

Цитронеллол / Citronellol

Экстракт фиалки трехцветной / Viola Tricolor Extract

Гераниевое масло / Geranium Maculatum Oil

Гераниол / Geraniol

Линалоол / Linalool

Сорбат калия / Potassium Sorbate

Бензоат натрия / Sodium Benzoate

Экстракт корня репейника / Arctium Majus Root Extract

Экстракт лимона / Citrus Limon (Lemon) Extract

Экстракт атлантической бурой водоросли / Fucus Serratus Extract

Экстракт плюща / Hedera Helix Leaf Extract

Экстракт жерухи (водного кресса) / Nasturtium Officinale Extract

Экстракт шалфея / Sage-Salvia Officinalis-extract

Экстракт мыльнянки лекарственной / Saponaria Officinalis extract

Цитраль / Citral